基板の汚染を抑制するための方法および装置

专利摘要:
ポリマーで形成される基板収納容器内で著しく乾燥した環境を維持するための、コンポーネント、システム、および方法は、基板収納容器の補助的な外部ガスパージを提供して、容器のポリマー壁を通した水分および酸素の浸透を最小にし、かつ、容器のポリマー壁に封じ込められた水の脱着を抑制する。
公开号:JP2011507309A
申请号:JP2010539813
申请日:2008-12-18
公开日:2011-03-03
发明作者:オレグ；ピー． キシュコビッチ；アナトリー グレイファー；デイビッド；エル． ハルプマイアー
申请人:エンテグリス・インコーポレーテッド；
IPC主号:H01L21-673

专利说明:

[0001] ［関連出願］
本出願は、２００７年１２月１８日に出願された米国仮出願第６１／０１４，７０９号の利益を主張し、参照によりその全体が本明細書に組込まれる。
［技術分野］
本発明は、基板収納容器に関し、また、そのような容器の内部における乾燥を維持すること、および汚染を最小限にすることに関する。
［背景技術］
レチクルポッドまたはウェハ収納容器のポリマー壁内の水分、ならびに、ポリマー壁を浸透する水分が、そのような容器内に含まれる基板の汚染源であることが認識されてきた。]
[0002] 搬送、保管、または後続の製造プロセスにおける休止中に、半導体ウェハは、ＳＭＩＦ（標準化された機械的インタフェース(ｓｔａｎｄａｒｄｉｚｅｄ ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ ｉｎｔｅｒｆａｃｅ)の頭字語）ポッドおよびＦＯＵＰ（フロント開口型一体ポッド(ｆｒｏｎｔ ｏｐｅｎｉｎｇ ｕｎｉｆｉｅｄ ｐｏｄ)の頭字語）などの特別な容器内に保管される。製造工程の長さおよびサイクルタイムなどのいくつかの要因に依存して、ウェハは、処理工程間でかなりの時間、こうした容器内に置かれる可能性がある。この時間の間、処理工程にあるウェハは、製品の収率に有害な、周囲水分、酸素、および他のＡＭＣ（「空気媒介分子汚染物質」）の影響を受ける。]
[0003] たとえば、水分は、制御されない自然酸化物成長、ヘイズの形成、および腐食をもたらす可能性があり、一方、酸素は、銅配線の信頼性に影響を及ぼすことが知られている。実験データおよび計算による研究が示したところでは、ウェハを内部に有して閉じられたＦＯＵＰは、シェルの下部ベース上の入口ポートまたはＦＯＵＰのドアを通した窒素の連続した流れによって効果的に浄化され得る。約４リットル／分の窒素の緩やかな流れが、装填されたＦＯＵＰ内部の酸素および水分レベルの大幅な低減を実現し、ちょうど４〜５分で、１％ＲＨおよび０2が１％まで低下する。実験データはまた、窒素パージ流の打切りが、非常に迅速に、数分以内に、水分濃度の増加、ＦＯＵＰ内部で１％より大きなレベルをもたらす可能性があることも示している。この作用は、ＦＯＵＰの壁を介した水分浸透、および、ＦＯＵＰのポリカーボネート壁からの水分脱着によって生じると思われる。]
[0004] 周囲水分および酸素に対して、基板、たとえば、ウェハをよりよく保護する、よりよいシステムおよびプロセスが必要とされている。
［発明の概要］
いくつかの実施形態では、たとえばＦＯＵＰといった装填された基板収納容器の二重パージが、その保管およびＰＧＶ（パーソナル搬送台車(ｐｅｒｓｏｎａｌ ｇｕｉｄｅｄ ｖｅｈｉｃｌｅ)）などを使ったイントラベイ搬送中に提供される。二重パージは、基板収納容器の外側に誘導されるかまたは規制される、清浄乾燥空気（「ＣＤＡ」）流または他のパージガス流を含み、その流れは、水分の基板収納容器内への浸透を抑制するかまたは最小にし、たとえばポリカーボネートであってよい、ポリマー製隔壁を徐々に乾燥させる。ＦＯＵＰの内部の、窒素などによる従来の内部パージは、酸素蓄積を抑制し、内部から隔壁の乾燥をもたらす。]
[0005] 基板収納容器用の保管ストッカ内部のパーティション壁またはシュラウドは、ＣＤＡの効果的な循環を保証する。パージステーション上のイントラベイミニ保管庫および格納装置内部の同様のシュラウドおよびパーティション壁は、効果的なＣＤＡ使用ももたらす。ＣＤＡおよびＮ２が充填された、再充填可能低圧ベッセルを装備したＰＶＧは、移動中のＦＯＵＰのための二重パージをもたらす可能性がある。]
[0006] 本発明の実施形態では、ポリマーで形成される基板収納容器内で著しく乾燥した環境を維持するためのシステムは、基板収納容器の、補助的な外部ガス洗浄を提供して、容器のポリマー壁を介した水分および酸素の浸透を最小にし、かつ、容器のポリマー壁に封じ込められた水の脱着をさらに実現する。]
[0007] 特定のシュラウドおよび／またはパージガス誘導板は、外部パージを制御しおよび外部パージを含むストッカの一部として、放出ノズルから下流に設けられることができる。シュラウドおよび２重壁は、ウェハ収納容器に対して設けられ、外部パージガス洗浄のための規制された経路を提供してもよい。]
[0008] いくつかの実施形態における本発明の特徴および利点は、壁空間を有する基板収納容器を提供して、内部壁の外向き表面のための外部パージ能力を内部壁に提供することである。前記壁空間は、たとえば、１平方インチより小さい、制限された入口エリアによって実質的に閉鎖されてもよい。同様に、出口エリアは、たとえば、１平方インチより小さく制限されてもよい。入口および出口は、その入口および／または出口に、さらなる制限部材、たとえば、逆止弁またはフィルタを有してもよい。いくつかの実施形態における本発明の特徴および利点は、ウェハ収納容器に固定されていない、ウェハ収納容器の外部表面から約０．２５インチ〜約２インチの隙間を提供する基板収納容器シュラウドを有するストッカを提供することである。]
[0009] 本発明のいくつかの実施形態における特徴および利点は、ウェハ収納容器に固定して取り付けられる外部シュラウドであってウェハ収納容器の外部表面から約０．２５インチ〜約２インチの隙間を提供する外部シュラウドを備えた内部収容壁を有する基板収納容器を提供することであり、固定して取り付けられたシュラウドと内部収容壁との間に空間を生成し、それにより、外部パージガスが空間に供給され得るその基板収納容器を提供することである。ある実施形態では、隙間は、シュラウドの内部表面のほぼ全体にわたって２インチより小さい。]
[0010] 本発明のいくつかの実施形態における特徴および利点は、基板収納容器に外部シュラウドピースを付加することによって基板収納容器を修正する方法であって、それにより、基板収納容器の収容壁の外向き表面とシュラウドとの間に空間が設けられ、外部パージガスが空間に供給される、方法である。]
[0011] 本発明のいくつかの実施形態における特徴および利点は、基板収納容器からのパージ出口を提供し、基板収納容器の内部内で循環するパージガスが、そのパージガスが内部を出た後に再誘導されて、基板収納容器の外部表面を洗浄することである。]
[0012] いくつかの実施形態における本発明の特徴および利点は、パージ出口に偏向器ピースを有する基板収納容器を提供し、それにより、基板収納容器の内部内で循環するパージガスが、そのパージガスが内部を出た後に再誘導されて、基板収納容器の外部表面を洗浄することである。]
[0013] 本発明のいくつかの実施形態における特徴および利点は、パージ出口が容器全体にわたって配設された基板収納容器を提供し、出口は、容器の外部に抜けていて、流れ出るパージガスを、容器の外部表面に平行な方向に再誘導することである。こうしたパージ出口は、パージが生じないときに内部へのガスの流れを抑制するために、内部に逆止弁を有してもよい。]
[0014] 本発明のいくつかの実施形態における特徴および利点は、複数のパージ入口を有する基板収納容器であり、少なくとも１つのパージ入口は基板収納容器の内部に向けられ、少なくとも１つのパージ入口は、基板収納容器の内部収容部を画定する壁の外部表面を洗浄するために向けられることである。]
[0015] 本発明のいくつかの実施形態における特徴および利点は、複数のパージ入口を有する基板収納容器であり、少なくとも１つのパージ入口は基板収納容器の内部に向けられ、少なくとも１つのパージ入口は、基板収納容器の内部収容部を画定する壁の外部表面を洗浄するために向けられることである。]
[0016] 本発明のいくつかの実施形態における特徴および利点は、パージ出口における偏向器ピースを提供し、それにより、基板収納容器の内部内で循環するパージガスが、そのパージガスが内部を出た後に再誘導されて、基板収納容器の外部表面を洗浄することである。こうした偏向器は、基板収納容器において、ストッカのまたは容器のための格納装置のような一部分に取付けられるかまたは固定され、もしくはそのような部分と分離してもよい。]
[0017] 本発明のいくつかの実施形態における特徴および利点は、基板収納容器の外側表面に非常に接近してパージガスを分散させて非常に濃縮されたパージガス（非常に清浄でかつ非常に乾燥した空気など）が最適に利用され得ることであり、レチクルポッドのポリマーシェル内で水分浸透を最小にし、最低湿度を維持し、また、基板収納容器表面からの拡散を加速させる。]
図面の簡単な説明

[0018] 本発明のパージ機構を有するレチクルポッドストッカの略図である。
本発明のウェハ収納容器、パージ機構を有するストッカの略図である。
本発明のレチクルＳＭＩＦポッドの斜視図である。
本発明のパージシステムに接続された図３のレチクルポッドの略断面図である。
本発明のレチクルＳＭＩＦポッドの別の略図である。
本発明のＳＭＩＦポッドの略図である。
本発明のＳＭＩＦポッドの略図である。
本発明の逆止弁を有するパージ偏向器の詳細断面図である。
本発明のＳＭＩＦポッドの断面図である。
本発明の半導体ウェハ用のＳＭＩＦポッドの分解斜視図である。
本発明のフロント開口型ウェハ収納容器、たとえば、３００ミリメートルフロント開口型一体ポッド、ＦＯＵＰの斜視図である。
図１１のＦＯＵＰの底面図である。
本発明のフロント開口型基板収納容器の分解図である。
本発明の基板収納容器の壁詳細の断面図である。
本発明の基板収納容器の断面詳細の代替の図である。] 図１１ 図３
実施例

[0019] ［好ましい実施形態の詳細説明］
図１を参照すると、格納装置２０は、パージガス供給部２４および２６を有するレチクルＳＭＩＦポッドストッカとして構成されて示される。あるいは、基板収納容器は、ＦＯＵＰ（フロント開口型一体ポッド(ｆｒｏｎｔ ｏｐｅｎｉｎｇ ｕｎｉｆｉｅｄ ｐｏｄｓ））およびＦＯＳＢ（フロント開口型搬送ボックス(ｆｒｏｎｔ ｏｐｅｎｉｎｇ ｓｈｉｐｐｉｎｇｂｏｘ)）として知られているようなウェハ収納容器であってよい。こうしたストッカでは、清浄な乾燥空気または非常に清浄な乾燥空気が、格納装置に供給されてもよい。あるいは、窒素などの純粋な不活性ガスが供給されてもよい。ストッカは、レチクルＳＭＩＦポッドが棚４４、４６上に着座する受容領域４０および４２を有し、レチクルＳＭＩＦポッド５０は、前記レチクルポッドの底部にパージ入口を有し、それにより、パージガスが、前記レチクルポッドの内部に供給される。前記パージガスは、レチクルポッドのベース内のフィルタ６０を通してストッカの周囲環境６４内に放出されてもよく、さらなる外部表面パージガスは、ノズル６８、７０などのパージ出口であって、レチクルＳＭＩＦポッドの外部に向けられるパージ出口により供給される。シュラウドまたは誘導板７５、７６、７７が、ノズルの下流で利用されて空気またはガス流がポッドの外部表面に誘導されてもよい。この濃縮されたパージガスは、レチクルポッドのポリマーシェルに引き寄せられる（ｄｒａｗｉｎｇ）ように提供され、ポリマーシェル内への水分の浸透を抑制し、ポリマーシェルを乾燥させる。格納装置は、パーティション７４を有しても良く、前記レチクルポッドを隔離して前記ポッドの外部洗浄のために最大濃度のパージガスが供給されることを許容する。レチクルポッドストッカの内部にほぼ清浄な空気を供給するためのさらなるパージガス出口７８が内部に設けられてもよい。ＣＤＡおよび特別な清浄乾燥空気の説明および記述のために、参照により本明細書に組込まれるＰＣＴ／ＵＳ２００７／０１４４２８を参照されたい。] 図１
[0020] 供給される種々のパージガスは、最適に構成され、特定の意図される機能、すなわち、内部パージ、外部パージガス洗浄、またはストッカ内での周囲雰囲気の生成のために、種々のレベルの乾燥度および／または清浄度を有してもよい。]
[0021] 図２を参照すると、棚１０２、１０４を有するさらなる格納装置１００が示される。前記棚は、パージ出口１０６、１０８、および、パージガスがウェハ収納容器を循環した後にそのパージガスを受取るパージ排出受容部１１０、１１２を有する。ＳＭＩＦポッドまたはＦＯＵＰ１２０などのウェハ収納容器は、それぞれのパージ出口およびパージ排出具に着座するように前記棚上に設置されてもよい。さらに、上方および下方に移動可能であるシュラウド１３０が設けられて、基板収納容器をほぼ取り囲んで制限された内部空間を提供し、それにより、特定のパージガスが、基板収納容器１２０の外部を効果的に洗浄するように供給されてもよい。前記パージガスは、シュラウドの接合部と棚との間、または他の排出口または出口排出手段によって排出されてもよい。パージガスの種々の供給部は、供給部１４２、１４４、１４６、およびパージガスライン１４７、１４８、１４９で示されるように設けられてもよい。こうした供給は、空気に対して窒素など、異なるガスであってよく、また、所望に応じてまたは適切であるように、種々の程度の清浄度および／または乾燥度を備えてもよい。図２の格納装置は、車輪１５０で示すように可搬型であっても良く、一例では処理工程の中間で、製造施設内で基板収納容器を搬送しても良い。] 図２
[0022] 図３および４を参照すると、ＳＭＩＦポッドは、概してレチクルＳＭＩＦポッド１６０として構成されて示される。前記レチクルＳＭＩＦポッドは、一般的には、シェル部１６２、ドア１６３、およびシュラウド１６４を含む。シュラウド１６４は、シェル部の外側表面１６８に並置されて重なり合うよう構成される。前記シェル部は、レチクルを内部に含むための収容部として作用する。具体的には図４を参照すると、レチクル１７２は、破線で示され、レチクル支持部１７４、１７６によって支持される。ドアは、一対のパージ入口１８２、１８４を有し、パージ入口１８２、１８４は、シェルとドアとによって画定されるレチクルポッドの内部１８６に接続される。パージノズル１９０、１９２は、パージガスを、前記レチクルＳＭＩＦポッドの内部に注入する。この構成では、パージガスは、ドア１６３の中心に配置されたフィルタ１９４を通って排出される。シュラウド１６４は、シュラウド１６４とシェルの外部表面１６８との間に画定される空間２００につながるさらなるパージ入口１９８を有する。前記パージガスは、前記空間２００に注入され、前記外部表面に沿っておよび前記外部表面に隣接して、前記外部表面に平行な方向に運ばれ、前記シュラウドによって閉じ込められる前記外部表面の輪郭に従って誘導されるかまたは輪郭に追従する。パージガスは、開口２０４で排出されてもよい。Ｔガス流が、図において、特にここでは空間２００において、概して矢印で示される。異なるパージガス源２０８、２１０は、いろいろな組成および／または清浄度および／または乾燥度を提供するパージガスのために設けられ得る。] 図３ 図４
[0023] 図５は、ＳＭＩＦポッドの代替の図を示し、パージガスは、ＳＭＩＦポッドの内部に注入されて、ＳＭＩＦポッドシェル部１６２内の出口２２０から排出される。こうして、前記パージガスは、ＳＭＩＦポッドの内部で循環し、その後、出て、シュラウド１６４によって誘導されるように、シェルの外部表面１６８に沿って移動させられる。] 図５
[0024] 図６を参照すると、ＳＭＩＦポッド２５０のさらなる実施形態が示される。ＳＭＩＦポッドは、シェル部２５２と、内部２５６を有するドア２５４とを有する。ドアおよびシェル部は、レチクル２６４の収容のための内部２６０を画定する。本実施形態では、ドアは、レチクルが含まれるレチクルポッドの内部につながる２つのパージ入口２７０、２７２を有する。第３のパージ入口２７６は、ドアの内部につながる。ドアは、パージ出口２７８を有し、それにより、ドア内部２５６に注入されたパージガスは、ドアから排出される。ＳＭＩＦポッドでは、ドアは、ポッドの低部に配置され、ＦＯＵＰおよびＦＯＳＢでは、ドアは、容器部分の前部の開口部に配置される。図１１を参照されたい。こうしたＦＯＵＰおよびＦＯＳＢのドアは、同様にパージされてもよい開口した内部を多くの場合有するであろう。図６の構成では、レチクルが収容されるレチクルポッドの内部に注入されるパージガスは、シェル内の開口２８２から排出される。前記開口は、参照により本明細書に組込まれるＵＳ２００６／０２６６０１１に開示されるように、内部にフィルタ２８４が配設されている。レチクルポッドの内部についての排出ガスは、その後、シュラウド２８６によってシェル部の外部表面に沿って強制的に流される。パージガス供給部２９０は、異なる組成および／または清浄度および／または乾燥度のパージガスを提供するための、別個の部分２９２、２９４を有してもよい。] 図１１ 図６
[0025] 図７を参照すると、さらなるＳＭＩＦポッド３００が示される。ＳＭＩＦポッドは、一般に、ドア３０２およびシェル部３０４を備える。ドアは、パージ源に接続可能で、ＳＭＩＦポッド３００の内部３１０にパージガスを注入するパージ入口３０６、３０８を有する。この構成では、シェルは、パージガスを排出するための複数の出口、および、シェル出口のそれぞれに配置される複数の偏向器３２０を有する。偏向器は、ＳＭＩＦポッドの内部を出る排出ガスを偏向および誘導して、シェルの外部表面３２４を洗浄する。こうした配置構成はまた、ウェハ収納容器などの他の基板収納容器に適し、以下を参照されたい。] 図７
[0026] 図８を参照すると、偏向器の構成の詳細断面が示され、前記偏向器３２０は、Ｔ形状であり、ネジ式端部３２４を持ち、貫通して延在しかつ横方向に出る導管経路３２６を有し、逆止弁３２８は、１方向出口流のみを実現するために出口に適切に置かれる。これは、本明細書に述べるＳＭＩＦポッドまたはウェハ収納容器に関するものであってよい。] 図８
[0027] 図９を参照すると、ＳＭＩＦポッド４００のさらなる実施形態が示され、概してドア４０２およびシェル部４０４を含む。シェル部は、内側壁４０６および外側壁４０８を備える。内側壁は、外向きの表面４１０を有する。ＳＭＩＦポッドは、この構成では、４つのパージポート、および、入口ポート４１４が、パージガスをレチクルポッドの内部４１６に注入するよう構成され、パージガスは排出ポート４２０から排出される。前記ポートは、ドア内に好適に配置される。基板支持構造４２４は、ドア上に設けられ、レチクル用の支持部として、または、従来のｈ−バーウェハ収納容器を配設するよう構成され得る。シェル部は、シール４３０および４３２によってドアをシールする。２次シール４３２は、内側シェル壁と外側シェル壁との中間の空間４３６の収容を提供する。さらなるパージポート４４２が設けられて、内側シェル部と外側シェル部との間の空間にパージガスが注入される。さらなる排出ポート４４６が設けられて、壁部の中間の空間から排出されるパージガスの排出がもたらされる。前記ドアは図９では示されないが、図６および図７に示すように内部を有するこのドアは、当業者にとって、図９の構成において実現可能であると思われ、また、本発明の実施形態として含まれ考えられるべきであることが理解される。] 図６ 図７ 図９
[0028] 図１０を参照すると、シェル部５０２、ドア５０４、およびＨ−バーウェハ収納容器５０６を有する従来のＳＭＩＦポッド５００が示される。ドアは、内部ラッチ機構５１０を有し、内部ラッチ機構５１０は、ＳＭＩＦポッドに関して慣例であるように、シェル部５０２の内側と清浄に係合して、ドアを所定場所に固定することになる。ドアはまた、キャリアのｈ−バー５１４をドア上に適切に配置するための支持構造５１２を有する。さらなるパージポート５２０は、ドアの底部に配置され、ドアの下から係合される。このＳＭＩＦポッドは、図９に示すように構成された上側シェル部を有してもよく、また、図９に示されたドア、または開口した内部を有する図示されたドアを有してもよい。図６および図７を参照されたい。] 図１０ 図６ 図７ 図９
[0029] 図１１を参照すると、フロント開口型ポッド６００が示される。こうしたポッドは、フロント開口型一体ポッド（ＦＯＵＰ）として知られ、プロセス工程の間において３００ミリメートルウェハを格納するために利用されることが多い。容器は、一般には容器部分６０２、ラッチ機構を有するドア６０４、およびドアの前部のラッチ機構鍵穴６０６を備える。前記ドアは、シェル部６０２にシール可能に係合して、密封された内部を生成する。底部面は、図１１ａに示され、底部面上に業界標準の３溝運動式結合部(ｔｈｒｅｅ−ｇｒｏｏｖｅ ｋｉｎｅｍａｔｉｃ ｃｏｕｐｌｉｎｇ)６２４が配置されている。パージポート６３０は、シェル部の底部ベース上に配置されてもよく、または別法として、図１１上の数字６３４の破線で示すように、前部ドア上に配置されてもよい。図１１の容器のシェル部は、図１３および１４に示すように、２重壁構成を有してもよい。ウェハは、ウェハ収納容器の内部６４４内に含まれ、従来通りにパージ可能であることになる。さらなる補助壁６５０が設けられて、内側壁６６０と外側壁６５５との間に空間６５８を提供してもよい。内側壁は、矢印で示すように、内部パージガスにさらされる外向き表面６６２を有し、内部パージガスは、２重壁セクション間の内部内で循環して、ポリマー内部壁に乾燥作用を提供し、水分の内部への浸透を抑制しても良い。パージガスは、図１３に示すように、内部から、逆止弁６７２を有するポート６７０を通って排出されることができる、または、図４を参照し、容器部分のベースに配置される別個のパージポートによって放出されることができる。前記ポートは、図１１上で示されることができ、６７０、６７２の破線で示される。図９のＳＭＩＦポッドに示されるような、第２のシールされた格納装置を画定する、ＦＯＵＰの２重壁内における空間６５８を有するのではなく、前記２重壁は、図１１に示すようにシュラウドとして構成されてもよい。いずれの場合も、パージガスは、ウェハが含まれる規制された内部を画定する壁部分の外向き表面に沿って供給され誘導される。] 図１１ 図１１ａ 図１３ 図４ 図９
[0030] 図１２を参照すると、２重壁セクションにシールされた内部空間を提供するのに適切であると思われる構成が示される。この構成は、外部シェル部８０２、内部シェル部８０４、およびドア８０６を有する。組み立てられると、外側シェルと内側シェルとの間に隙間が設けられ、上述した機能を達成するために、前記シェル間の前記空間はパージ可能である。同様に、前記容器の内部はまた、適切にパージ可能であるだろう。したがって、フロント開口型容器は、通常、３溝運動式結合部８１２として構成される機械インタフェースを有する。] 図１２

权利要求:

請求項1
ウェハを内部に有したウェハ収納容器に対し、保持及び二重パージを提供する格納装置であって、前記ウェハ収納容器は、ポリマー製隔壁を有するポリマーシェルを有し、該格納装置は、前記ウェハ収納容器を受容する開口を有し、前記ウェハ収納容器は、格納装置内で載置可能であり、該格納装置は、２つのパージシステムを有し、前記２つのパージシステムはそれぞれ、前記ウェハ収納容器が載置されると、前記ウェハ収納容器に異なる濃度または組成のパージガスを供給し、一方のパージシステムは、前記ウェハ収納容器の内部をパージするためのものであり、もう一方のパージシステムは、前記ウェハ収納容器の前記隔壁の外部表面にパージガスを誘導し、前記ウェハ収納容器の前記ポリマー製隔壁の乾燥が効果的に進行する、格納装置。
請求項2
製造施設の複数の領域内でウェハを搬送するために可動である請求項１に記載の格納装置。
請求項3
内部にウェハを有したウェハ収納容器を保持し載置させる格納装置であって、前記ウェハ収納容器はそれぞれ、ポリマーシェルを有し、格納装置は、ウェハ収納容器を受容するためにアクセス可能であり、また、シュラウドを有し、前記シュラウドは、該シュラウドの設置および取外しのために取外し可能であり、前記シュラウドは、該シュラウドと前記ウェハ収納容器との中間にパージガスを供給してパージガスで前記ウェハ収納容器の収容壁の外部表面を洗浄するために、少なくとも部分的にウェハ収納容器を覆って延在する、格納装置。
請求項4
内部にウェハを有した複数のウェハ収納容器を保持する格納装置であって、前記ウェハ収納容器はそれぞれ、ポリマーシェルを有し、格納装置は、個々のウェハ収納容器を載置させる個々の受容領域を有し、各受容領域は、前記ウェハ収納容器の内部パージ用の１つのパージ出口および前記容器の外部をパージする１つの出口を有する、格納装置。
請求項5
内部パージ用の前記パージ出口は、窒素ガス源に接続され、前記容器の外部をパージする前記出口は、清浄乾燥空気源に接続される請求項４に記載の格納装置。
請求項6
内部にウェハを有した複数のウェハ収納容器を保持する格納装置であって、前記ウェハ収納容器はそれぞれ、ポリマー製隔壁を有し、格納装置は、個々のウェハ収納容器用の個々の受容領域を有し、各受容領域は、前記ウェハ収納容器の内部パージ用の１つのパージ出口および前記容器の外部をパージする１つの出口を有し、ウェハ収納容器に対する二重パージを提供し、格納装置は、周囲空気清浄システムをさらに有する、格納装置。
請求項7
基板収納容器内の管理された環境によって、結晶形成汚染物質を低減する方法であって、シールされ、また開放可能な基板収納容器内において、結晶形成を受け易い基板を閉囲するステップと、前記基板収納容器が載置されるステップと、前記基板収納容器が載置された際、前記容器の内部を窒素でパージするステップと、前記基板収納容器が載置された際、少なくとも清浄乾燥空気によって、前記容器の外部表面パージガス洗浄を提供するステップと、前記外部表面パージガス洗浄を、前記外部表面の数インチ以内に抑制するステップと、を含む方法。
請求項8
前記容器の前記内部をパージするステップは、前記内部に窒素を注入することを含む請求項７に記載の方法。
請求項9
請求項７のステップは、前記外部表面パージガス洗浄のために清浄乾燥空気を利用することを含む請求項７に記載の方法。
請求項10
前記内部パージおよび前記外部表面パージガス洗浄を達成するために、パージ接続部を有するストッカ内に前記基板収納容器を閉囲するステップを含む請求項７に記載の方法。
請求項11
ウェハ収納容器のポリマー製隔壁のために二重パージを提供するシステムであって、外部表面パージおよび内部ウェハ収納容器パージを提供する内部ウェハ収納容器パージシステムおよび外部ウェハ収納容器表面パージシステムを含むシステム。
請求項12
ウェハ収納容器の収容壁の外部パージ洗浄を提供するシステムであって、前記ウェハ収納容器に近接してパージ出口を備えるシステム。
請求項13
収容壁の外部表面に沿って外部パージを集中させるシュラウドを有するウェハ収納容器。
請求項14
ウェハ収納容器の外部表面に沿ってパージガスを偏向させるパージ出口を有するウェハ収納容器。
請求項15
ポリマーシェルを有するウェハ収納容器であって、一対のパージ入口部を有し、一方のパージ入口部はウェハ収納容器の内部をパージするためのものであり、もう一方のパージ入口部は、前記内部を画定する壁の外部表面をパージするためのものである、ウェハ収納容器。
請求項16
ウェハ収納容器であって、容器の収容壁の外部表面にパージガスを誘導するパージ導管を有するウェハ収納容器。
請求項17
ウェハ収納容器であって、ウェハ収納容器の前記収容壁の外部表面を洗浄するためにパージガスを運び閉じ込めるための導管であって、収容壁の外部表面を覆って延在するパージ導管を有する、ウェハ収納容器。
請求項18
ウェハ収納容器であって、共にシール可能なドアおよびシェル部を有し、ウェハを保持するための内部を画定し、前記シェル部は、２重壁および前記シェル部内にパージガスを注入するポートを有する、ウェハ収納容器。
請求項19
前記ドアは、開口した内部と、前記ドア内のラッチ機構と、前記ドアの前記内部内にパージガスを注入するポートとを有する請求項１８に記載のウェハ収納容器。
請求項20
シュラウドであって、前記ウェハ収納容器の外部形状の一部分に一致し、ウェハ収納容器の外部表面に沿って空間を画定し、パージガスが、前記空間内に注入されることができ、前記ウェハ収納容器の収容壁の外部表面を洗浄することができる、シュラウド。
請求項21
シールされたウェハ収納容器内での、ウェハのヘイズ成長および汚染を最小にする方法であって、ウェハ収納容器が載置されるステップと、前記ウェハ収納容器が載置されると、前記ウェハの内部パージを提供するステップと、前記ウェハ収納容器が載置されると、専用パージ出口によって、前記ウェハ収納容器の外部壁に誘導される外部パージも提供するステップと、を含む方法。
請求項22
シールされた基板収納容器内での、基板のヘイズ成長および汚染を最小にする方法であって、前記基板収納容器が載置されるステップと、前記基板収納容器が載置されると、前記基板収納容器の内部パージを提供するステップと、前記基板収納容器が載置されると、専用パージ出口によって、前記基板収納容器の外部壁に誘導される外部パージも提供するステップと、を含む方法。
請求項23
３００ｍｍウェハ用のフロント開口型ウェハ収納容器であって、収容壁の外部表面のパージガス洗浄手段を有する前記収容壁を備える、フロント開口型ウェハ収納容器。
請求項24
前記手段は、２次的なシールされた内部またはシュラウドを提供する２重壁である請求項２３に記載の容器。
請求項25
基板収納容器を保持する格納装置であって、前記基板収納容器はそれぞれ、少なくとも１つの基板を内部に保持するよう構成され、格納装置は、前記基板収納容器を受容する閉鎖可能な開口を有し、格納装置は、それぞれが異なる濃度または組成のパージガスを提供する２つのパージシステムを有し、一方のパージシステムは、前記基板収納容器の前記内部のためのものであり、もう一方のパージシステムは、前記ウェハ収納容器の外部にパージガスを誘導するためのものである、格納装置。
請求項26
製造施設の複数の領域内でウェハを搬送するために可動である請求項２５に記載の格納装置。
請求項27
内部にウェハを有するウェハ収納容器を保持する格納装置であって、ウェハ収納容器を受容するためにアクセス可能であり、また、シュラウドを有し、前記シュラウドは、該シュラウドと前記ウェハ収納容器との中間にパージガスを供給してパージガスで前記ウェハ収納容器の収容壁の外部表面を洗浄するために、少なくとも部分的にウェハ収納容器を覆って延在する、格納装置。
請求項28
内部に基板を有する複数の基板収納容器を保持する格納装置であって、個々の基板収納容器用の個々の受容領域を有し、各受容領域は、前記ウェハ収納容器の内部パージ用の１つのパージ出口および前記容器の外部をパージする１つの出口を有する格納装置。
請求項29
内部パージ用の前記パージ出口は、窒素ガス源に接続され、前記容器の外部をパージする前記出口は、清浄乾燥空気源に接続される請求項２８に記載の格納装置。
請求項30
各基板収納容器は、一対のパージ入口を有し、一方のパージ入口は、前記基板収納容器の内部のためのパージガスを受容するためのものであり、他方のパージ入口は、前記基板収納容器の収容壁の外部表面を洗浄するためにパージガスを受容するためのものである請求項２８に記載の格納装置
請求項31
内部に基板を有した複数の基板収納容器を保持する格納装置であって、前記基板収納容器はそれぞれ、ポリマーシェルを有し、格納装置は、個々の基板収納容器を載置させるための、パーティションで画定された個々の受容領域を有し、各受容領域は、前記基板収納容器の内部パージ用の１つのパージ出口および前記容器の外部をパージする１つの出口を有し、格納装置は、周囲空気清浄システムをさらに有する、格納装置。
請求項32
内部に基板を有する複数の基板収納容器を保持する格納装置であって、個々の基板収納容器用の個々の受容領域を有し、各受容領域は、前記受容領域に載置された前記それぞれの基板収納容器を少なくとも部分的に覆うシュラウドを有し、各受容領域は、前記ウェハ収納容器の内部パージ用の１つのパージ出口および前記容器の外部をパージする１つの出口を有する、格納装置。
請求項33
内部に基板を有する複数の基板収納容器を保持する格納装置であって、個々の基板収納容器用の個々の受容領域を有し、各受容領域は、前記受容領域に載置された前記それぞれの基板収納容器を少なくとも部分的に覆うシュラウドを有し、各受容領域は、前記ウェハ収納容器の内部パージ用の１つのパージ出口および前記容器の外部をパージする１つの出口を有する、格納装置。
請求項34
レチクルＳＭＩＦポッドのための二重パージを提供するシステムであって、内部パージおよびウェハ収納容器外部表面パージを含み、前記外部表面パージは、前記レチクルＳＭＩＦポッドの外部表面の輪郭に従うように強いられるシステム。
請求項35
レチクルＳＭＩＦポッドの収容壁の外部パージ洗浄を提供するシステムであって、前記ウェハ収納容器に近接してパージ出口を備えるシステム。
請求項36
レチクルＳＭＩＦポッドであって、レチクルＳＭＩＦポッドの収容壁の外部表面に沿って外部パージを集中させるシュラウドを有するレチクルＳＭＩＦポッド。
請求項37
レチクルＳＭＩＦポッドであって、レチクルＳＭＩＦポッドの外部表面に沿ってパージガスを偏向させるパージ出口を有するレチクルＳＭＩＦポッド。
請求項38
一対のパージ入口部を有するレチクルＳＭＩＦポッドであって、一方のパージ入口部は、レチクルＳＭＩＦポッドの内部をパージするためのものであり、もう一方のパージ入口部は、前記内部を画定する壁の外部表面をパージするためのものである、レチクルＳＭＩＦポッド。
請求項39
前記容器の収容壁の外部表面にパージガスを誘導するパージ導管を有するレチクルＳＭＩＦポッド。
請求項40
レチクルＳＭＩＦポッドであって、レチクルＳＭＩＦポッドの収容壁の外部表面を洗浄するためにパージガスを運び閉じ込めるための導管であって、収容壁の外部表面を覆って延在するパージ導管を有するレチクルＳＭＩＦポッド。
請求項41
レチクルＳＭＩＦポッドであって、共にシール可能なドアおよびシェル部を有し、レチクルを保持するための内部を画定し、前記シェル部は、２重壁および前記シェル部内にパージガスを注入するポートを有する、レチクルＳＭＩＦポッド。
請求項42
前記ドアは、開口した内部と、該内部のラッチ機構と、前記ドアの前記内部にパージガスを注入するポートとを有する請求項４１に記載のレチクルＳＭＩＦポッド。
請求項43
シュラウドであって、前記レチクルＳＭＩＦポッドの外部形状の一部分に一致し、レチクルＳＭＩＦポッドの外部表面に沿って空間を画定し、パージガスが、前記空間内に注入されることができ、前記レチクルＳＭＩＦポッドの収容壁の外部表面を洗浄することができる、シュラウド。
請求項44
シールされたレチクルＳＭＩＦポッド内での、レチクルのヘイズ成長および汚染を最小にする方法であって、前記レチクルＳＭＩＦポッドの内部パージを提供するステップと、専用パージ出口によって、前記レチクルＳＭＩＦポッドの外部壁に誘導される外部パージを提供するステップと、を含む方法。
請求項45
シールされたレチクルＳＭＩＦポッド内での、レチクルのヘイズ成長および汚染を最小にする方法であって、前記レチクルＳＭＩＦポッドの内部パージを提供するステップと、専用パージ出口によって、前記レチクルＳＭＩＦポッドの外部壁に誘導される外部パージを提供するステップと、を含む方法。
請求項46
基板収納容器のために二重パージを提供するシステムであって、内部パージおよび外部ウェハ収納容器表面パージを含み、前記外部表面パージは、前記基板収納容器の外部表面の輪郭に従うように強いられる、システム。
請求項47
基板収納容器の収容壁の外部パージ洗浄を提供するシステムであって、前記ウェハ収納容器に近接してパージ出口を備えるシステム。
請求項48
基板収納容器であって、基板収納容器の収容壁の外部表面に沿って外部パージを集中させるシュラウドを有する基板収納容器。
請求項49
基板収納容器であって、基板収納容器の外部表面に沿ってパージガスを偏向させるパージ出口を有する基板収納容器。
請求項50
一対のパージ入口部を有する基板収納容器であって、一方のパージ入口部は、基板収納容器の内部をパージするためのものであり、もう一方のパージ入口部は、前記内部を画定する壁の外部表面をパージするためのものである基板収納容器。
請求項51
基板収納容器であって、容器の収容壁の外部表面にパージガスを誘導するパージ導管を有する基板収納容器。
請求項52
基板収納容器であって、基板収納容器の収容壁の外部表面を洗浄するためにパージガスを運び閉じ込めるための導管であって、収容壁の外部表面を覆って延在するパージ導管を有する基板収納容器。
請求項53
基板収納容器であって、共にシール可能なドアおよびシェル部を有し、レチクルを保持するための内部を画定し、前記シェル部は、２重壁および前記シェル部内にパージガスを注入するポートを有する、基板収納容器。
請求項54
前記ドアは、開口した内部と、該内部におけるラッチ機構と、前記ドアの前記内部内にパージガスを注入するポートと、を有する請求項４１に記載の基板収納容器。
請求項55
シュラウドであって、前記基板収納容器の外部形状の一部分に一致し、基板収納容器の外部表面に沿って空間を画定し、パージガスが、前記空間内に注入されることができ、前記基板収納容器の収容壁の外部表面を洗浄することができる、シュラウド。
請求項56
シールされた基板収納容器内での、ウェハのヘイズ成長および汚染を最小にする方法であって、受容領域に前記シールされた基板収納容器が載置されるステップと、前記シールされた基板収納容器が前記受容領域に載置されている間に、前記基板収納容器の内部パージを提供するステップと、前記シールされた基板収納容器が前記受容領域に載置されている間に、専用パージ出口によって、前記基板収納容器の外部壁に誘導される外部パージも提供するステップと、を含む方法。
請求項57
シールされた基板収納容器内での、基板のヘイズ成長および汚染を最小にする方法であって、受容領域に前記シールされた基板収納容器が載置されるステップと、前記シールされた基板収納容器が前記受容領域に載置されている間に、前記基板収納容器の内部パージを提供するステップと、前記シールされた基板収納容器が前記受容領域に載置されている間に、専用パージ出口によって、前記基板収納容器の外部壁に誘導される外部パージも提供するステップと、を含む方法。